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OES光電直讀光譜測(cè)定儀器 儀器自帶診斷功能 氬氣氣壓監(jiān)視器 真空狀態(tài)監(jiān)視器 自動(dòng)波譜漂移控制 儀器標(biāo)準(zhǔn)化程序及錯(cuò)誤信息日志 可顯示所有儀器存儲(chǔ)完整譜圖數(shù)據(jù)并與現(xiàn)有測(cè)試譜圖進(jìn)行比較

OES光電直讀光譜測(cè)試儀器 全數(shù)字等離子火花光源技術(shù) 高效得益于緊湊的設(shè)計(jì)和半導(dǎo)體控制技術(shù) 高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS) 激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實(shí)際需求自定義進(jìn)行設(shè)置 頻率 100–1000Hz 電流 1-80A

OES光電直讀光譜分析儀器 強(qiáng)大的分析功能 全部或部分工作曲線標(biāo)準(zhǔn)化，運(yùn)用單點(diǎn)或兩點(diǎn)校準(zhǔn)方法類型校準(zhǔn)功能 校準(zhǔn)和分析時(shí)進(jìn)行重現(xiàn)性檢查添加新校準(zhǔn)曲線 在有分析曲線上添加新標(biāo)樣內(nèi)標(biāo)校準(zhǔn)功能，基體校準(zhǔn)功能分析譜線自動(dòng)切換 分析結(jié)果超分析曲線范圍，自動(dòng)進(jìn)行推算及標(biāo)識(shí)

OES光電直讀光譜檢測(cè)儀器 OES全譜真空型直讀光譜儀器優(yōu)勢(shì)： 1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)； 2、國(guó)內(nèi)生產(chǎn)真空CCD/CMOS全譜技術(shù)光譜儀的制造商； 3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用 4、升級(jí)多基體方便，無須變動(dòng)增加硬件 ； 5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ； 6、體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 ； 7、高集成度、高可靠性、等

全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀 OES全譜直讀光譜儀應(yīng)用CCD/CMOS光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。 OES落地式全譜真空式直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。

X射線熒光分析儀探測(cè)器 臺(tái)式技術(shù)參數(shù) 元素分析范圍：硫（S）~ 鈾（U） 分析檢出限：1ppm 分析含量：ppm ~ 99.99％ 任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型 相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型 多變量非線性回歸程序 溫度適應(yīng)范圍：15℃ ~ 30℃ 電源：交流220V±5V，建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源 能量分辨率：144±5eV

便攜式x射線熒光分析儀 便攜式XRF 合金分析儀攜帶方便，使用簡(jiǎn)單，分析速度快，精度高，其結(jié)果直接顯示合金*號(hào)、金屬成分的百分比含量，從而使便攜式XRF 合金分析儀成為合金材料鑒別的一供應(yīng)商。

手持式x射線熒光分析儀 產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾（貴金屬及鍍層檢測(cè)等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中規(guī)定的有害物質(zhì)：鉛Pb、砷Ａs、銻Sb、鋇Ｂa、鎘Cd、鉻Cr、Ｈg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（銅合金、鋁合金、鎂合金等）、冶金（鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等）、地質(zhì)采礦（各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備）、塑料（無鹵測(cè)試等）、等等。